Altera與臺積電在55納米嵌入式閃存領域合作

Altera計劃生產面向大批量應用的下一代非易失可編程器件

2013年4月16號，北京 — Altera公司 (NASDAQ： ALTR)與臺積公司(TSMC)今日共同宣布在55納米嵌入式閃存 (EmbFlash) 工藝技術上展開合作，Altera公司將采用臺積公司的55納米前沿嵌入式閃存工藝技術生產可程序器件，廣泛支持汽車及工業等各類市場的多種低功耗、大批量應用。

相較于前一代的嵌入式閃存工藝，臺積公司55納米嵌入式閃存工藝提供更快速的計算能力，邏輯門密度提高十倍，而且閃存及SRAM單位元尺寸減小幅度分別達到70%及80%，Altera公司采用臺積公司55納米嵌入式閃存工藝生產的可程序器件能支持大批量應用開發人員構建功能豐富的非易失系統。

Altera公司工藝技術開發副總裁Reda Razouk表示：“我們與臺積公司的關系構建在共同承諾的基礎之上，致力于提供客戶最新的工藝技術，在我們的系列產品中增加新的55納米嵌入式閃存產品將延續Altera公司所秉承的訂制策略，在工藝技術、架構、體系結構和專用IP基礎上進行產品優化以滿足系統性能的需求。”

臺積公司全球業務暨營銷資深副總經理陳俊圣表示：“臺積公司在55納米嵌入式閃存等技術上的持續投入為Altera及其他客戶拓展更多商機，藉由相互謀合雙方在事業與技術上所追求的目標，Altera公司進一步提升客戶產品的競爭力。”

Altera公司簡介

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